子最后通过双缝射到哪儿,但只要光子够多,最后肯定会形成干涉条纹。
量越大,宏观分布越符合概率规律,这是众所周知的。而量变小了之后,偶然性误差就会凸显。
所以一旦单层厚度降低到微米级,你随便乱喷就会出现有的地方厚。有的地方薄、有的地方甚至完全没有覆盖到的情况,质量控制也就无从谈起。
而这个问题,眼下如果没有顾辙亲自插手,其他同行几乎也是不可能解决的。
顾辙对此却是早有准备。他为此把手下搞化学沉积法的金灿也带来了,还有好几个研究生,在顾辙的方向指点下,开始搞专门用于分别收集PLGA或者PVA轻薄喷层的掩膜材料。
正常的熔喷环节,对于接收成品的滚筒、凝结网帘,要求是很低的,只要滚筒或网帘的材料不会粘住要生产的热熔布料,而且内部足够通入冷却水、让热熔材料一喷到冷却筒表面就瞬间冷凝,就行了。
而顾辙对现在所要用到的收集掩膜的要求,却额外加了两道:
他需要确保收集疏水的PLGA喷层的掩膜,本身足够亲油疏水,一旦热熔PLGA喷过来的时候,能够用油性吸附力把原本“堆叠不平”的PLGA尽量拉平、摊平。
同理,收集亲水的PVA喷层的掩膜,则要反其道而行之,足够亲水疏油,用水性表面特性把“堆叠不平”的PVA尽量拉平。
这样一来,靠着搜集膜的特定材质,可以进一步把微厚熔喷的厚度误差,额外再拉平一个数量级。
而且,因为单一熔喷层太薄,材料结构强度太低,在堆叠起来之前,这些单层材料是没法直接滚筒搜集起来的,得跟着掩膜一起卷起来。
所以顾辙最后还得考虑掩膜如何回收的问题,最好的办法思路当然是“掩膜本身的熔点,最好比PLGA和PVA还低得多。
这样多层PLGA和PVA和掩膜都叠到一起之后,可以稍稍加热、就在PLGA和PVA不再次融化的情况下,单独把掩膜融化了,流出来回收掉,只留下PLGA和PVA层叠的复合布”。
类似于做千层酥的时候,一开始为了防止面饼层粘在一起,需要一层层抹酥油。但最后面层定型之后、进烤箱之前,却希望把中间的酥油层给去掉。(例子不太恰当,但也举不出更恰当的例子了)
这么多弯弯绕绕的复杂科学思路混杂在一起,给没开上帝视角的普通地球人100个脑子,也难以单独把一系列问题想明白。
要不是顾辙前世对化学沉积法钻研多年,也不至于如此举重若轻。
……
顾辙把相关的“化学沉积掩膜”任务拆分、单独交给金灿和他带的那几个硕士研究生去做的时候,金灿看了这个实验设计,也是震惊得不行。
他完全没想到,原
请收藏:https://m.zhenhun9.cc
(温馨提示:请关闭畅读或阅读模式,否则内容无法正常显示)